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专利摘要

本发明提供了一种含银高熵合金宽温域润滑薄膜材料及其制备方法，涉及润滑材料技术领域。本发明提供的含银高熵合金宽温域润滑薄膜材料，包括依次设置在基材表面的铬过渡层和CrNiMoNbAg高熵合金层。本发明采用铬作为过渡层，解决了含银薄膜沉积过程中难以与基材结合以及高温条件下薄膜剥落的问题；本发明采用CrNiMoNbAg高熵合金层作为润滑层，发挥了银良好的润滑性能及高熵合金优异的力学性能、高温稳定性以及抑制高温下银扩散的优势，降低了薄膜材料的摩擦系数，提高了薄膜材料的寿命。 ......

基本信息

专利类型:
发明专利
申请/专利号:
CN202210727542.3
申请日期:
2022-06-24
专利申请人:
中国科学院兰州化学物理研究所
分类号:
C23C14/35;C23C14/50;C23C14/02;C23C14/14
发明/设计人:
王鹏，张弘
权利要求: 1.一种含银高熵合金宽温域润滑薄膜材料，包括依次设置在基材表面的铬过渡层和CrNiMoNbAg高熵合金层。2.根据权利要求1所述的含银高熵合金宽温域润滑薄膜材料，其特征在于，所述铬过渡层的厚度为0.2～0.3μm；所述CrNiMoNbAg高熵合金层的厚度为0.8～1.2μm。3.根据权利要求1所述的含银高熵合金宽温域润滑薄膜材料，其特征在于，按原子百分比计，所述CrNiMoNbAg高熵合金层中各元素含量为：铬20～30％、镍20～30％、钼10～20％、铌5～15％、银20～25％。4.权利要求1～3任一项所述含银高熵合金宽温域润滑薄膜材料的制备方法，包括以下步骤：以铬靶作为磁控溅射靶，采用磁控溅射技术在基材表面制备铬过渡层；以铬镍钼铌靶和银靶作为磁控溅射靶，采用磁控溅射技术在所述铬过渡层表面制备CrNiMoNbAg高熵合金层，得到含银高熵合金宽温域润滑薄膜材料。5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，制备所述铬过渡层时，采用直流电源溅射铬靶，所述直流电源的功率为100～300W；溅射时间为10～15min。6.根据权利要求4或5所述的制备方法，其特征在于，制备所述铬过渡层时，对基材施加-50～-150V偏压。7.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，制备所述CrNiMoNbAg高熵合金层时，采用直流电源同时溅射铬镍钼铌靶和银靶，所述铬镍钼铌靶的直流电源功率为100～300W；所述银靶的直流电源功率为13～40W；所述铬镍钼铌靶和银靶的溅射时间为40～60min。8.根据权利要求4或7所述的制备方法，其特征在于，制备所述CrNiMoNbAg高熵合金层时，对基材施加-50～-100V偏压。9.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述铬镍钼铌靶由铬、镍、钼、铌纯金属靶拼接而成；所述铬镍钼铌靶中铬、镍、钼、铌纯金属面积比为1～2:1～2:1:1。10.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在制备所述含银高熵合金宽温域润滑薄膜材料过程中，基材保持旋转，旋转的速率为2.5～10r/min。