6月24日上午，2023年度国家科学技术奖励大会在北京人民大会堂隆重举行。清华大学高端装备界面科学与技术全国重点实验室路新春教授和雒建斌院士团队“集成电路化学机械抛光关键技术与装备”项目获2023年度国家技术发明奖一等奖。

化学机械抛光（CMP）是光刻等集成电路制造工艺进行的前提和保障，装备长期被国外垄断。项目揭示了抛光过程流场运动规律和晶圆全局压力调控机制，首创直线运动式新型抛光单元，发明了双面喷淋清洗与表面张力梯度辅助竖直旋转干燥技术，建立了亚纳米膜厚测量与摩擦力终点检测技术，发明了模块化柔性布局整机架构。突破了国外专利壁垒，为芯片制造提供了全系列CMP装备，经济社会效益显著，对我国高端芯片制造自主可控起到重要支撑作用。

主要完成人：

路新春（清华大学）、雒建斌（清华大学）、王同庆（清华大学）、赵德文（清华大学）、何永勇（清华大学）、刘宇宏（清华大学）

多重并行整机架构及CMP系列整机